SOLARIS® S380提供基础配置并着眼于未来多工艺的可扩展性,最大基片尺寸可达15英寸,可靠的量产性以及可扩展性优化了机台利用率和运营成本。
SOLARIS® S380适合如电磁屏蔽,触摸屏等领域的大规模生产。
SOLARIS® S380可配置5个独立的腔体,可以分别用于RTP, PVD,刻蚀或CVD等工艺。
机台亮点
可选的工艺包含大面积直流 (DC)镀膜,直流脉冲 (DC Pulsed) 反应镀膜,自带冷却的射频 (RF) 镀膜或蚀刻,最高温度可达550°C的RTP,单腔最多4种材料共溅射的阴极。所有的工艺模块都是独立运行,相互隔离,按需定制的。
另外,Evatec 自有的客制化"Penta Plus"阴极技术可以实现电磁屏蔽应用所需的精密台阶覆盖。
了解更多SOLARIS® 性能请下载产品手册,或翻阅Evatec LAYERS 杂志,或联系本地销售和服务团队。
SOLARIS® S380提供基础配置并着眼于未来多工艺的可扩展性,最大基片尺寸可达15英寸,可靠的量产性以及可扩展性优化了机台利用率和运营成本。
SOLARIS® S380适合如电磁屏蔽,触摸屏等领域的大规模生产。
SOLARIS® S380可配置5个独立的腔体,可以分别用于RTP, PVD,刻蚀或CVD等工艺。
机台亮点
可选的工艺包含大面积直流 (DC)镀膜,直流脉冲 (DC Pulsed) 反应镀膜,自带冷却的射频 (RF) 镀膜或蚀刻,最高温度可达550°C的RTP,单腔最多4种材料共溅射的阴极。所有的工艺模块都是独立运行,相互隔离,按需定制的。
另外,Evatec 自有的客制化"Penta Plus"阴极技术可以实现电磁屏蔽应用所需的精密台阶覆盖。
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