LAYERS 5 - ITO沉积和刻蚀技术，使CMOS基底OLED成为可能

Evatec产品市场经理Franz Xaver Lenherr向我们介绍了如何利用30年的溅射和蚀刻专业技术，帮助我们快速跟踪ITO镀膜和ITO蚀刻工艺的发展，从而在300 mm的CMOS上生产用于下一代OLED的阳极。

阅读原文请点击此处。

文章仅提供英文版本