"LLS EVO II"

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LLS Retrofit

2.

LLS Brochure

3.

LLS EVO II

紧凑的设计和灵活性使立式批量溅射机台非常适用于金属，介质层和磁性薄膜，性价比极高，基板尺寸高达200x230mm。

4.

Integrated Passive Devices

5.

集成磁性无源器件

资深科学家Claudiu Valentin Falub博士解释了LLS EVO II如何实现高级软磁多层的工程设计。

6.

MEMS/NEMS

了解Evatec 技术应用于集成稳压器 (IVR) 中的RF-MEMS，传感器，执行器，TFH和软磁的金属，电介质和高级功能材料（磁和压电）的更多信息。

7.

物理气相沉积（PVD）技术

了解Evatec 的蒸镀和溅镀技术如何帮助您提高产量并降低成本。

8.

9.

功率器件

受益于Evatec 在功率器件应用方面的长期经验，可提高MOSFET, IGBT, IGCT, LDMOS, SiC和GaN等功率器件的批量生产的生产率，工艺稳定性和良率。

10.

刻蚀技术

从敏感薄膜的特性改变到高速率薄膜的去除，更多相关信息请参阅Evatec 等离子技术在晶圆或面板级应用。

11.

公司简介

我们的技术已经塑造世界70余年。

了解更多关于我们公司，我们的产品，以及Evatec 薄膜是如何无处不在的应用于我们的日常生活中。

12.

LAYERS 6- SEMICONDUCTOR CHAPTER

13.

LAYERS 6 - SEMICONDUCTOR