我们已为您的BAK机台准备好安装各种蒸镀源和刻蚀装置，包括晶圆正面和背面加热系统等配件。

腔体里的基座和侧壁已设计好一系列标准的穿通孔，可安装镀膜工艺所需的蒸镀源和刻蚀装置的组合。

我们所有的蒸镀源都是专为7x24生产而设计的，坚固且易于维护，并针对材料最低消耗使用和最佳的可重复性工艺进行了优化。

随着未来工艺要求的变化，只需通过移动，交换或添加新的模组就可以重新配置系统。在重新配置 "Khan" 控制系统的设定后，只需几分钟您就可以开始使用了。利用Evatec 的QCM晶振监测技术，可搭配5MHz或6MHz的晶振片以控制镀膜速率。QCM技术具有高采样率，晶振片之间的快速切换，通过单个控制器可同时控制多达4个晶振头。为了实时直接测量镀膜过程中光学膜层的性能，选择用于UV (紫外光),VIS (可见光) 和IR (红外光)的单色光或宽光谱光学监控技术。

Evatec 基板装载解决方案，旨在不影响薄膜质量下，最大程度提高蒸镀工艺的批量生产处理能力。选择具有标准形状的单片式或分段式挂架，或者您需要进行双面镀膜处理时，也可以参考我们的挂架翻转系统。

对于高速金属镀膜，我们的行星系统设计可实现大批量生产和最低材料消耗率；对于复杂的基板几何形状，我们的工程部门可提供定制设计服务。

在指定壁挂式或在腔门上安装大面积矩形溅射源的情况下，我们提供成熟的旋转笼式基板挂架设计，可轻松装载/卸载基板夹具，并最大程度地增加每个批量生产的镀膜面积。