欢迎来到 The Thin Film Powerhouse，作为薄膜技术的全球领导者，我们不仅设计和制造工业用生产机台，同时为全球领先的研发机构提供定制工程解决方案。
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我们致力于在先进封装，半导体，光电和光学的核心市场提供完整的生产解决方案。选择相关市场，了解Evatec 解决方案如何给您带来领先优势。
想了解更多？让我们为您提供相关的市场最新信息。
芯片，晶圆和面板级工艺方案
芯片，晶圆和面板级工艺方案（WLCSP, FOWLP, FOPLP, 2.5D, 3D, IC)
专业金属化和薄晶圆加工
受益于Evatec 在功率器件应用方面的长期经验，可提高MOSFET, IGBT, IGCT, LDMOS, SiC和GaN等功率器件的批量生产的生产率，工艺稳定性和良率。
薄膜应用于感应，驱动和磁性
了解Evatec 技术应用于集成稳压器 (IVR) 中的RF-MEMS，传感器，执行器，TFH和软磁的金属，电介质和高级功能材料（磁和压电）的更多信息。
使用蒸镀或溅镀技术的RF滤波器件
我们的镀膜工艺针对金属，触点和电极，压电材料和电介质。包括GaAs上的HBT,GaN上的HEMT技术，IR器件以及RF滤波器件(SAW和BAW)。
LED和高性能光电解决方案
了解Evatec 成熟的机型和PVD工艺组合如何在全球领先的(O)LED芯片，Micro LED和VCSEL等制造商的日常生产中，提高性能并降低每流明成本。
先进工艺控制（APC）的高精密光学镀膜
了解Evatec 高精度光学镀膜的量产解决方案，使用先进工艺控制技术(APC)来确保最佳的重复性和良率。
刻蚀，蒸镀，溅射和PECVD工艺专业技术是我们生产设备的核心。我们的先进工艺控制（APC）技术能提高产能，提升良率，降低运营成本。
想了解更多？我们很乐意为您发送技术更新信息。
丰富的蒸镀及溅镀专业技术知识
了解Evatec 的蒸镀和溅镀技术如何帮助您提高产量并降低成本。
用于薄膜特性变更或薄膜层去除的等离子技术
从敏感薄膜的特性改变到高速率薄膜的去除，更多相关信息请参阅Evatec 等离子技术在晶圆或面板级应用。
在低工艺温度下提供高质量镀膜
了解使用PLASMABOX® 技术的Evatec PECVD工艺，以及如何通过确保均匀性的热量分布和极低的交叉污染来提供最佳的薄膜质量。
提高薄膜工艺的精度和良率
了解 Evatec 的先进工艺控制技术 (APC) 如何帮助您提高薄膜工艺的精度和良率。
根据您的应用，基板形式和产量要求，我们提供一系列批量式，集群式和连续式平台架构。配备蒸镀，溅镀，刻蚀和PECVD源科技。我们有超过50多年的工艺和专业生产技术。选择一个机型来了解其硬件和工艺能力。
想了解更多？我们很乐意为您提供产品的最新信息
有50年工艺知识，蒸镀距离从0.5至2.0米的蒸镀机
目前全球已安装超过2,000台BAK机台，我们将带您了解为何BAK能成为跨半导体，光电和光学的业界标准蒸镀机。
Cluster系列机台，最大可处理650mm 的晶圆或面板
CLUSTERLINE® 系列有最大可处理尺寸为650mm 晶圆或面板的设备机台，在所有Evatec核心市场中，以最安全的传送和最先进的工艺赢得市场的盛誉。
先进封装中晶圆级工艺的优势
可以达到每小时50片的12寸或8寸有机钝化晶圆生产速度，且不会造成下游污染。HEXAGON是让您在UBM,RDL,TSV和Fanout工艺中保持领先的生产设备。
金属，介质和磁性薄膜用立式溅射机台
紧凑的设计和灵活性使立式批量溅射机台非常适用于金属，介质层和磁性薄膜，性价比极高，基板尺寸高达200x230mm。
基板传输自动化和翻面 (可选）
从抬头显示 (HUD) 到卫星通讯，新MSP 1232机台专用于精密光学溅射镀膜的大规模生产，适用于平面或3D曲面的玻璃，塑料或金属等基材。
超高产能全自动连续型生产解决方案
SOLARIS® 系列是专为全自动化工厂生产设计而生。最大基片尺寸可达8英寸 (SOLARIS® S151机台) 或15英(SOLARIS® S380机台)。应用领域涵盖了从触摸屏面板到电磁屏蔽，功率器件到光伏电池。
从最初的安装计划开始，我们的全球客户服务团队就将在机台的整个周期内为您提供帮助。了解我们可以提供的服务。
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Evatec客户服务 - 快速浏览我们能提供的一切
详细了解服务组合，充分利用Evatec 机台。
快速高效 - 提供建议找出您需要的备件并安排快速交付。
”现场"或"远程支持" - 由您选择
除了解决紧急的机台停机外，还有许多其他方法可以帮助您最大程度地利用Evatec 生产设备。
延长Evatec 的机台的使用寿命
解决老龄备件停产的问题及通过新增硬件和工艺功能加强Evatec 机台的利用率，了解我们如何为您提供帮助。
来我们瑞士总部，或让我们的培训师来拜访您，或使用最新的远程技术。我们合格的培训师随时准备为您提供帮助。
在同一镀膜过程中受益于单光谱和宽光谱算法。
利用CLUSTERLINE® 200制备兼容氮化硅光电子应用的反应溅射薄膜
Evatec产品市场经理Franz Xaver Lenherr告诉我们，如何利用30年的溅射和蚀刻专业技术，帮助我们快速跟踪CLUSTERLINE® 300上的ITO镀膜和ITO蚀刻工艺的发展，从而在300 mm的CMOS上生产用于下一代OLED的阳极。
CEO Andreas Waelti谈到了持续投资的重要性以及我们近年来进行的投资如何使全球客户受益。
我们的薄膜技术杂志"LAYERS"的第五版现已发行。单击此处了解内容并立即订阅。
了解有关使用反应溅射氮化硅薄膜，应用于低损耗CMOS工艺兼容氮化硅光子学，生产解决方案的信息 - 查看发表在Optics Express 2019 12月刊的论文。
蒸发技术解决了"厚"层镀膜的难题，使最新的大面积数字闪烁体技术可用于医疗和工业用途。Evatec 产品经理Kurt Flisch告诉我们如何做。
高级产品经理Stephan Voser解释了SOLARIS® 如何轻松地以完全自动化的方式为现有和即将到来的应用 (例如增强现实AR) 处理各种光学薄膜工艺。
